| 产品名称 | Silicon Ring |
|---|---|
| 产品描述 | The role for gathering the plasma on the right place evenly |
| 适用领域 | Etcher |
| 产品类别 | Focus Ring, Insert Ring, Hor Edge Ring, Outer Ring, Ground Ring 등 |
| 原料 | Single Crystal Silicon, Poly Si, CVD SiC |
| 外径 | Ø600 Max |
| 电阻 | 低电阻<0.1ohm.cm 普通电阻 1~20ohm.cm |
| 电极孔 | 直径(Diameter) 圆形(Roundness) 偏心误差(Concentricity) |
| 表面处理 | Polishing, Lappping, Grinding |
| 平坦度 | 0.01 |
| 加工精度 | 0.05 |
- 半导体晶圆所使用的半成品Cathode&硅环
- 分销半导体蚀刻工艺使用的原材料
- 制造8“12”大口径晶圆必用
- 主要客户为HANA Materials、SKC solmics、Worldex等半导体零部件制造商
- 半导体零部件制造商
硅Cathode安装在Etcher（蚀刻设备）机房的上部，起到均匀喷射电极与反应性Gas（CF4、C4F6、O2）的作用。
硅环安装在Etcher（蚀刻设备）的机房的下部，起到对反应性Gas+RF产生的等离子体离子Focus的作用。
