| 제품명 | Silicon Ring |
|---|---|
| 제품설명 | Electrode에서 생성된 Plasma를 정위치로 모아주는 역할 |
| 적용분야 | Etcher |
| 제품종류 | Focus Ring, Insert Ring, Hor Edge Ring, Outer Ring, Ground Ring 등 |
| 원료 | Single Crystal Silicon, Poly Si, CVD SiC |
| 외경 | Ø600 Max |
| 저항 | 저저항<0.1ohm.cm 일반저항 1~20ohm.cm |
| 전극 홀 | 지름(Diameter) 원형(Roundness) 편심오차(Concentricity) |
| 표면처리 | Polishing, Lappping, Grinding |
| 평탄도 | 0.01 |
| 가공 정밀도 | 0.05 |
- 반도체 웨이퍼에 사용되는 반제품 실리콘 캐소드&링
- 반도체 에칭 공정에 사용되는 원재료 판매
- 8” 12” 대구경 웨이퍼 제조에 필수적으로 사용
- 주요 고객은 하나머티리얼즈, SKC솔믹스, 월덱스 외 반도체 부품제조사
- 반도체 부품 제조업체
실리콘 Cathode는 Etcher(식각 장비)의 Process 챔버의 상부에 장착하여 전극 및 반응성 Gas(CF4, C4F6, O2)의 균일한 분사의 역할을 함.
실리콘 Ring은 Etcher(식각 장비)의 Process 챔버의 하부에 장착하여 반응성 Gas + RF에 의해 발생된 플라즈마 이온을 Focus하는 역할을 함.
